| PL150平面電弧鍍膜設(shè)備 NH-ARCPL系列 | |||
|---|---|---|---|
| NH-ARC850TES | NH-ARC1000TES | NH-ARC1100TES | |
| 真空室尺寸 | D850X900 | D1000X1100 | D1100X1200 |
| 均勻可鍍區(qū) | D500XH500 | D650XH650 | D780XH780 |
| 極限真空度 | 3.0*E-4Pa | ||
| 壓升率 | 0.1Pa/hr | ||
| 轉(zhuǎn)架形式 | 標(biāo)配兩套轉(zhuǎn)架系統(tǒng)+周轉(zhuǎn)小車 采用整進(jìn)整出形式 | ||
| 沉積裝置 | 150永磁+線圈電弧平面矩形弧 | ||
| 離子輔助裝置 | N-IGET弧離子刻蝕+燈絲離子源+弧獨(dú)立擋板預(yù)清洗裝置 | ||
| 真空檢測(cè) | 復(fù)合真空計(jì)+薄膜真空規(guī) | ||
| 加熱系統(tǒng) | 500℃，3根熱電偶監(jiān)測(cè) | ||
| 冷卻水循環(huán)系統(tǒng) | 配日本SMC水流開(kāi)關(guān)，智能控制 IPC+PLC全自動(dòng)控制 | ||
| 控制系統(tǒng) | 觸摸式 手動(dòng) 全自動(dòng) 帶自動(dòng)暖機(jī) 智能無(wú)人值守關(guān)機(jī)聯(lián)動(dòng)系統(tǒng) | ||
| 生產(chǎn)運(yùn)行周期 | 涂層(3um),5-6小時(shí)/爐 | 涂層(3um),6-8小時(shí)/爐 | 涂層(3um),6-8小時(shí)/爐 |
| 極限載重 | 300KG | 500KG | 800KG |