小型實驗真空鍍膜機NH-EVA系列 | |||
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NH-EVA300TEP | NH-EVA500TEP | NH-EVA800TEP | |
真空室尺寸 | Ф300×H300mm | Ф500×H500mm | Ф800×H800mm |
有效鍍膜區(qū)域 | Ф100mm | Ф200mm | Ф500mm |
蒸發(fā)源種類 | 點源 | 點源/線源 | |
極限壓力 | 8×10-5pa | 5×10-4pa | |
蒸發(fā)方式 | 電子束蒸發(fā)、電阻熱蒸發(fā)或者兩者復合 | ||
蒸發(fā)源數(shù)量 | 1-12套,每個蒸發(fā)源配獨立擋板 | ||
膜厚控制 | 石英晶體膜厚儀,4通道,4個晶振探頭 | ||
在線掩膜版 | 在線切換,厚度0.3mm,定制化圖案,與基片零距離 | ||
真空系統(tǒng) | 機械泵+分子泵(或冷泵) | ||
控制方式 | PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面,實現(xiàn)全自動控制 | ||
應用領(lǐng)域 | 金屬、無機、有機材料的蒸鍍與器件制備,可用于OLED、QLED、有機光伏、鈣鈦礦電池/LED等器件研發(fā)與中試 |